株式会社ボンマーク
 
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NEOレーザーマスク

〜高密度印刷に最適〜
  現状のレーザーマスクの弱点である開口壁面の波型形状を円滑にし、従来のレーザーマスクと比較した 場合大幅な抜け性の向上を実現(当社比)。

機械によaる作業風景

NEOマスクの内壁の改善状態

 レーザー加工直後の壁面状態は表面にドロスが付着しており、通常はこのドロスを除去して 印刷性の安定化を図っております。NEO、NEO−Sは今後予想される更なる狭ピッチ印刷に対応する為、 壁面の平滑性を重視したNEO、エッジのシャープ性を保持しつつ壁面平滑性を向上させNEO-Sで印刷性を向上させております。